光掩膜(又称“光罩”“掩膜版”)是半导体制造过程中的关键图形转移工具；

华盛光刻拥有130nm 制程的4寸-12寸晶圆所需光掩膜版量产能力；

华盛光刻：开创100%纯国产光掩膜Foundry代工新纪元！