深圳华盛光刻系统有限公司

关于我们
Company Profile 公司简介

        2025年全球图形光刻(2D、2.5D、3D)整体市场规模达到约1400亿人民币,复合年增长率超过10%。其中2D半导体光掩膜,2024年国内市场规模120亿元,2025年国内市场规模将达到169亿元。

        图形光刻客户遍布于半导体、生物医疗、光模块、光子学等行业(近两年科创板上市公司超90%来自这些行业),属于[敏感词]战略支持及科创板上市热门的“硬”“卡”“替”领域。

        深圳华盛光刻系统有限公司(以下简称“华盛光刻”)成立于2023年4月6日,注册资本3151万RMB,主营业务图形光刻超精密制造(Foundry),制程60nm及以上,核心产品:半导体光掩膜、2.5D&3D微纳构件。

ny_pic.jpg

企业文化
  • 企业愿景

    肩负民族使命,聚合行业精英,拖着世界往前走

  • 企业使命

    实现图形光刻领域超精密制造单项冠军,成为国内第一、国际领先的独角兽企业

  • 质量方针

    质量为本关注细节,提供让客户值得信赖的产品及服务

  • 管理方针

    零缺陷管理
    一次做对管理
    TQM管理

发展历程
2021.10

        2021.10启动华盛光刻筹备委员会,组建核心创始团队

2022.4

        2022.4 十余名20年光刻技术经验的专家,产业级股东加入团队

2023.4

        2023.4 F01工厂落地光明区邦凯科技园,正式开启生产基地建设

2024.9

        2024.9 完成F01百级车间、环评、数字化建设获得全球供应链名录

2025.01E

        2025.01E 第一批设备安装和 调试,2D光罩投产 和3D光刻试产

未完待续......

2021.10
2022.4
2023.4
2024.9
2025.01E
未完待续......
荣誉证书
  • 3D掩模版缺陷检测系统V1.0

    3D掩模版缺陷检测系统V1.0

  • 3D光刻设备报警系统V1.0

    3D光刻设备报警系统V1.0

  • 一种3D光刻产品检测平台

    一种3D光刻产品检测平台

  • 平台调节结构和3D光刻实验装置

    平台调节结构和3D光刻实验装置

  • 掩膜版贴膜治具

    掩膜版贴膜治具

  • 一种降低3D光刻工艺累计误差的方法

    一种降低3D光刻工艺累计误差的方法

  • 一种基于双光子聚合技术制备三维电极的方法及三维电极

    一种基于双光子聚合技术制备三维电极的方法及三维电极

  • CA241182--3D光刻设备报警系统

    CA241182--3D光刻设备报警系统

  • 光刻文件加密系统

    光刻文件加密系统

  • 3D掩模版缺陷检测系统V1.0

    3D掩模版缺陷检测系统V1.0

  • 光刻文件加密系统

    光刻文件加密系统

  • 3D掩模版缺陷检测系统V1.0

    3D掩模版缺陷检测系统V1.0

回到顶部图片