深圳华盛光刻系统有限公司

技术
  • 主要产品
    130nm及以上光掩膜
    5:1/4:1、SL/QZ
    1:1Array光掩膜
  • 生产速率:40Pcs/day
    250nm以上光掩膜25Pcs/day
    130nm-250nm 光掩膜
    15Pcs/day
  • z_ico3.jpg
    加工周期
    3~ 6小时完成图纸处理
    First 2 Pcs<2~3days
    快12~24小时交付[敏感词]块版
  • 产能、良率
    满产年产光掩膜约14000片
    整体良率:99.3%
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