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图形光刻
制造能力
主要产品
130nm及以上光掩膜
5:1/4:1、SL/QZ
1:1Array光掩膜
生产速率:40Pcs/day
250nm以上光掩膜25Pcs/day
130nm-250nm 光掩膜
15Pcs/day
加工周期
3~ 6小时完成图纸处理
First 2 Pcs<2~3days
快12~24小时交付[敏感词]块版
产能、良率
满产年产光掩膜约14000片
整体良率:99.3%
深圳华盛光刻系统有限公司
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